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                      真空鍍膜:靶材分類與產業鏈介紹
                      標簽: 真空鍍膜
                      2022-10-08  閱讀

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                        【康沃真空網】一、靶材介紹 

                        靶材是半導體、顯示面板、光伏等領域制備功能薄膜的核心原材料,存在工藝不可替代性。

                        由于是在濺射過程中被高速金屬等離子體流轟擊的目標材料,又稱“濺射靶材”,純度為99.95%以上,更換不同靶材可得到不同的膜系,實現導電或阻擋等功能。

                        不同應用的靶材品種性能要求各有側重,重視高附加值的原料制備。

                        整體而言,靶材的純度、致密度和成分均勻性、晶粒等對靶材性能都有一定影響,且針對不同的下游影響程度和側重點有所不同。

                      真空鍍膜:靶材分類與產業鏈介紹

                      ▲ 濺射工藝原理圖,資料來源:江豐電子招股書

                        二、靶材的分類 

                        根據不同材質靶材可分為:金屬靶材,陶瓷靶材,合金靶材。

                        根據不同應用領域可分為:

                        ● 半導體靶材:

                        電極、布線薄膜:鋁靶材,銅靶材,金靶材,銀靶材,鈀靶材,鉑靶材,鋁硅合金靶材,鋁硅銅合金靶材等。

                        儲存器電極薄膜:鉬靶材,鎢靶材,鈦靶材等。

                        粘附薄膜:鎢靶材,鈦靶材等。

                        電容器絕緣膜薄膜:鋯鈦酸鉛靶材等。

                        ● 磁記錄靶材:

                        垂直磁記錄薄膜:鈷鉻合金靶材等。

                        硬盤用薄膜:鈷鉻鉭合金靶材,鈷鉻鉑合金靶材,鈷鉻鉭鉑合金靶材等。

                        薄膜磁頭:鈷鉭鉻合金靶材,鈷鉻鋯合金靶材等。

                        人工晶體薄膜:鈷鉑合金靶材,鈷鈀合金靶材等。

                        ● 光記錄靶材:

                        相變光盤記錄薄膜:硒化碲靶材,硒化銻靶材,鍺銻碲合金靶材,鍺碲合金靶材等。

                        磁光盤記錄薄膜:鏑鐵鈷合金靶材,鋱鏑鐵合金靶材,鋱鐵鈷合金靶材,氧化鋁靶材,氧化鎂靶材,氮化硅靶材等。

                        光盤反射薄膜:鋁靶材,鋁鈦合金靶材,鋁鉻合金靶材,金靶材,金合金靶材等。

                        光盤保護薄膜:氮化硅靶材,氧化硅靶材,硫化鋅靶材等。

                        ● 顯示靶材:

                        透明導電薄膜:氧化銦錫靶材,氧化鋅鋁靶材等。

                        電極布線薄膜:鉬靶材,鎢靶材,鈦靶材,鉭靶材,鉻靶材,鋁靶材,鋁鈦合金靶材,鋁鉭合金靶材等。

                        電致發光薄膜:硫化鋅摻錳靶材,硫化鋅摻鋱靶材,硫化鈣摻銪靶材,氧化釔靶材,氧化鉭靶材,鈦酸鋇靶材等。

                        ● 其他應用靶材:

                        裝飾薄膜:鈦靶材,鋯靶材,鉻靶材,鈦鋁合金靶材,不銹鋼靶材等。

                        低電阻薄膜:鎳鉻合金靶材,鎳鉻硅合金靶材,鎳鉻鋁合金靶材,鎳銅合金靶材等。

                        超導薄膜:釔鋇銅氧靶材,鉍鍶鈣銅氧靶材等。

                        工具鍍薄膜:氮化物靶材,碳化物靶材,硼化物靶材,鉻靶材,鈦靶材,鈦鋁合金靶材,鋯靶材,石墨靶材等。

                        三、靶材產業鏈及市場 

                        靶材制造產業鏈中主要環節為“金屬提純-靶材制造-濺射鍍膜-終端應用”四個環節,各環節附加值的差異也遵從微笑曲線分布。

                        其中濺射鍍膜是整個產業鏈中技術要求最高的環節,濺射薄膜的品質對下游產品的質量具有重要的影響。

                      真空鍍膜:靶材分類與產業鏈介紹

                      ▲ 資料來源:萬聯證券

                        從需求結構來看,顯示用靶材占比最大、國內京東方和TCL等廠家份額有望超60%;半導體用靶材市場規模在兩百億元量級,技術要求最高,中國大陸及臺灣市場占據半壁江山。

                        記錄媒體(機械硬盤HDD為主)用靶材份額僅次于顯示領域,HDD相對固態硬盤在服務器、數據中心等領域優勢無可替代,但市場主要以海外為主光伏領域,當前薄膜電池以美國為主,HJT電池由于效率優勢隨著成本下降發展可期。

                        據中國產業信息網,靶材行業市場空間有望從當前200億元水平增至2023年300億元,3年CAGR9.7%較高增長。

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