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                      廠務真空系統(PV)、清潔真空系統(HV)、工藝高真空系統(HPV)工藝技術介紹
                      標簽: 工藝技術
                      2023-01-11  閱讀

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                        【康沃真空網】一、中央清掃真空系統HV(House Vacuum)

                        又稱中央真空除塵系統,廣泛存在于電子行業、化工行業、以及制藥等行業中。

                        1.1系統組成

                        中央真空清掃系統是由吸塵主機(如下圖所示)、控制系統、吸塵管路、吸塵閥門、吸塵操作組件:真空清掃口(邊墻型/地板型)、清掃口連接彎頭(邊墻型)、清掃口連接件(地板型)、開關盒等構成。真空吸塵系統是一種高負壓,低流量的除塵系統的統稱。這一系統往往被應用于電子行業制造車間環境的清掃。應用這一系統的用戶往往對粉塵捕集的要求非常高,生產過程采用的加工設備屬于高精密加工設備,防塵要求高。

                      廠務真空系統(PV)、清潔真空系統(HV)、工藝高真空系統(HPV)工藝技術介紹

                        1.2工作原理

                        中央真空清掃系統運行時,粉塵通過吸塵嘴被有效的吸入到真空管網內部,在真空負壓的作用下,被吸進的粉塵隨氣流沿著負壓管路被抽入吸塵器內部。首先大顆粒粉塵經過進風口導流板,在離心力的作用下,落入機器下方的集塵桶內;密度極輕粉塵隨氣流繼續向上運動。粉塵進入中央吸塵主機過濾室時,被過濾器分離,清潔的空氣由真空吸塵機排風出口經消音裝置排入空氣中。過濾器上的粉塵通過系統自動脈沖反吹裝置定時反吹交替工作來完成。。

                        1.3中央清掃裝置特征:

                        集中的收集廢棄物并且能夠自動的排除氣體或液體。

                        創造一個更加安全更加干凈的潔凈室工作環境。

                        真空清掃系統一般放置在清潔室的外機房或者放到遠離有危險的區域。

                        每一套裝置都設計的可以連續一天24小時工作,連續一周7天工作。

                        二、制程真空PV( Plant vacum)

                        工藝真空系統廣泛應用于電子半導體業、光電背光模組、機械加工等行業,需要有極高的運作性能和可靠性。隨著電子廠自動化程度越來越高,很多機器都需要真空作為設備的動力。大部份的真空度要求在-0.06MPa -0.09MPa 左右。其中芯片廠主要用于wafer的吸取及移動以及如下設備:

                        IMP機臺(MIC);

                        PH機臺(MCT,DSS,MSR,DCT,KLA,SEM,AIT,LOM); 

                        ET機臺(CDE,UVC); 

                        TF機臺(PEO,SCR,XRF);

                        CMP機臺(ILD,WWW,STI,BGR);

                        量測機臺(HTK,PRO)

                        PV pump一般位于fab,采用N+1配置方式,設置真空儲罐(>5m3)

                        各機臺之POU點經sub-main到main-pipe再到tank,再經過pump排入一般排氣系統。

                        常用系統參數:真空度(負壓值)PV值一般不會小于0.9bar,使用值:70~260Torr/-40~100Torr;

                        流量:9~110 LPM;

                        接管尺寸:1/4“, 3/8 “

                        制程真空系統的組成:

                        由真空、 PLC 程序控制系統、儲氣罐、真空管道、真空閥門、過濾總成等組成的真空系統。

                        控制邏輯:設定真空系統的上下限值,啟動系統后,其中一臺真空泵開始工作,直到真空罐內真空度高于上限值,此時真空泵自動停止,真空罐內真空由真空止回閥自動截止。

                        如因工作需求真空罐內真空度降至低于下限值時,另一臺真空泵自動啟動直到真空罐內真空度抽到上限值超過一定時間,而單臺真空泵不能將罐內真空度抽至下限以上時,另一臺真空泵將自動啟動,直到超過上限。

                        運行特點:裝置一般自第一次啟動后,全部運行過程可以實現全自動控制。其工作中,真空系統內各處的真空度始終在其允許范圍內上下波動,其波動范圍可根據用戶要求進行調整。第一臺啟動達不到真空時第二臺啟動至達到設定的真空值當達到后第一臺停再第二臺停循環工作,裝置在無人操作情況下對系統進行自動控制,在停電時可自動封閉真空系統。同時控制箱可以保護真空泵馬達過載及短路。

                        工藝真空示意圖

                        廠務真空系統(PV)、清潔真空系統(HV)、工藝高真空系統(HPV)工藝技術介紹

                        三、工藝高真空(high vacuum)

                        與house vacuum不同,FAB 中許多工藝設備運轉過程中會產生許多的廢氣和危害性氣體,機臺在重新運轉前必須有計劃有步驟的清除這些有害的副產品。這樣可以減少設備自身產生的污染,減少廢品。

                        設備中收集這種副產品的部件叫氣室(chamber)。為了清潔氣室,必須使用高真空系統。也就是用真空Pump把機臺內的廢氣通過高真空管路抽出來,經過Scrubber 處理后排放到Exhaust system,從而保持設備的清潔和正常運轉,也保持環境的清潔。

                        一端與設備連接,另一端與泵連接的這段管叫做高真空管 “Pumping- Line”(vent )。

                        另外還有一種管,一端連到泵的輸出端而另一端連到工藝排風系統。許多設備都有幾種氣室,必須把廢氣用泵抽出來,從而保持設備的清潔,相應的就有不同的高真空管和泵來配套。為了確保這種廢氣排放工藝有效運行,在安裝設計高真空管時必須小心。尤其要考慮到如何確保氣泵最有效的工作。這就需要抽氣系統越短越好,所受限制越少越好,因此high vacuum泵一般都安放在SUBFAB,位于相關設備的正下方或盡可能靠近相關設備的正下方(如下圖)。

                        廠務真空系統(PV)、清潔真空系統(HV)、工藝高真空系統(HPV)工藝技術介紹

                        與Plant vacuum相比較,High vacuum一般參數如下:

                        真空度 0.01~10mTorr左右;

                        使用值:0.1~10mTorr;

                        流量:LPM(由工藝確定);

                        尺寸:1/4“,3/8 “,2 “, 3 “,4 “,5 “ ,6 “;

                        主要Pump類型品牌:BOC、Edwards、Ebara等;

                        主要scrubber類型:電加熱吸附(帶水洗)式;燃燒(帶水洗,酸堿中和)式;及循環水洗式等。


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